| Summary: | Mediante estudios realizados a nivel troposférico y estratosférico se ha demostrado que la disminución del espesor de 1a Capa dc Ozono a nivel planetario, con sus correspondientes consecuencias de aumento de la radiación ultravioleta, se ha transformado en un proceso cíclico anual y significativo, de particular importancia y principalmente por su magnitud en la Antártica. Dado el impacto que este fenómeno tiene sobre la flora, fauna y la población a nivel mundial, organismos internacionales y la propia ONU iniciaron una serie de acciones que culminaron con el Protocolo de Montreal (1987) y sus medidas consecutivas en materia de Control de los principales agentes químicos causantes de este fenómeno. Chile no ha estado exento de estas preocupaciones, sumándose a la tarea de contribuir al proceso de recuperación planetario de la Capa de Ozono e implementando programas educativos que, en la práctica, han abierto un espacio a una serie de aspectos normativos vinculados a las prácticas y restricciones que debe tener la manipulación y disposición final de todos aquellos gases de uso industrial que afectan al ozono estratosférico, particularmente los de tipo Clorofluorocarbonos (CFC). En este seminario de titulo se realizó un análisis del estado actual en que estos gases forman parte dei desarrollo productivo nacional, como también, de sus agentes de distribución y manipulación, disposición final y recambio tecnológico que está teniendo lugar en nuestro país. Todo ello, enfrentado desde la perspectiva ambiental por velar que nuestro país este a1 día en los compromisos internacionales que este tema requiere. De este modo, ante las carencias existentes, se propondrán elementos necesarios que nos permitan, formular las bases de un Modelo de Gestión Ambiental Integrado para desarrollar seguimientos de distribución, manipulación y disposición final de los compuestos Clorofluorocarbonados que cumplen su ciclo de vida tecnológico en el sector productivo de nuestro pais. Through studies carried out at the tropospheric and ...
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